就
是
對(duì)
待
工
作
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態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)工藝原理
來源:
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作者:HMDS烘箱技術(shù)部
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發(fā)布時(shí)間: 2015-04-12
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HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)工藝原理
HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)用途：在 MEMS 產(chǎn)品的研發(fā)過程中，在 PZ 層去膠之后發(fā)現(xiàn)有嚴(yán)重的側(cè)向腐蝕現(xiàn)象。這種現(xiàn)象可以直接從顯微鏡目檢中檢查出，而且在整個(gè)晶圓的表面呈現(xiàn)無規(guī)則的分布。這種過腐蝕現(xiàn)象會(huì)嚴(yán)重的影響到 MEMS 產(chǎn)品的性能。然兒涂膠前處理的HMDS 涂布只會(huì)影響到光刻膠與襯底之間的黏附性，對(duì)其他工藝參數(shù)的影響十分微小，這對(duì)于改善光刻膠與襯底之間的黏附性問題，是十分有利的。
HMDS涂布機(jī)，hmds涂膠機(jī)原理：
在提升光刻膠的黏附性工藝中，實(shí)際上HMDS(六甲基二硅烷)并不是作為粘結(jié)劑所產(chǎn)生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結(jié)構(gòu)，從而使晶圓的性質(zhì)由親水性表面轉(zhuǎn)變?yōu)槭杷员砻妗?
光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題，除了受到分子鍵合的影響，還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素，會(huì)減少黏附性，從而造成掀膠和側(cè)向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對(duì)硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使硅片表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性。
HMDS 一般采用蒸汽涂布的方式。簡(jiǎn)單評(píng)價(jià)晶圓的表面黏附性好壞，可以將晶圓進(jìn)行 HMDS 涂布，然后在晶圓的表面滴一滴水珠，然后通過測(cè)量水珠的接觸角，來進(jìn)行晶圓表面黏附性好壞的判斷。當(dāng)接觸角角度越大，說明黏附性越好，也就意味著疏水性越強(qiáng)。
HMDS涂膠機(jī)技術(shù)指標(biāo)：
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1、設(shè)備名稱 |
HMDS涂膠機(jī) |
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2、設(shè)備型號(hào) |
JS-HMDS90 |
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3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) |
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3.1 內(nèi)腔尺寸 |
450×450×450（mm）可選其他數(shù)據(jù) |
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3.2 材質(zhì) |
外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑、304不銹鋼，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼 |
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3.3 溫度范圍 |
RT+10-200℃ |
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3.4 溫度分辨率 |
0.1℃ |
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3.5 溫度波動(dòng)度 |
≤±0.5 |
|
3.6 真空度 |
≤133pa（1torr） |
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3.7 潔凈度 |
class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境 |
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3.8電源及總功率 |
AC 22±10% / 50HZ 總功率約2.5KW |
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3.9 控制儀表 |
人機(jī)界面 |
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3.10擱板層數(shù) |
2層 |
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3.11 HMDS控制 |
可控制HMDS藥夜添加量 |
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3.12真空泵 |
油泵、干泵 |
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