就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
,
個產品,
做到極致認真
每一組數(shù)據(jù)
產 品 中 心
products



四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱主要作用
設備將六甲基二硅烷(HMDS)快速、均勻且經濟高效的對襯底預處理,從而提高襯底與光刻膠的附著力。
優(yōu)質的光刻膠附著力是后續(xù)所有工藝步驟的基礎,只有經過充分底涂的表面才能精準復現(xiàn)亞微米級的共聚焦光闌,避免出現(xiàn)邊緣爆邊、或括副等問題。真空固化工藝能徹底脫水基板,使與HMDS層形成的優(yōu)異結合力即使在暴露于大氣濕度數(shù)周后仍能保持穩(wěn)定。
四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱工藝特點
化學沉積均勻性
接觸角均一性更好
防潮表面處理
光刻膠的附著力可提高 3-5 倍
避免填充空洞(Void)形成,提高圖形轉移質量
增強光阻附著性
六甲基二硅烷(HMDS)消耗量更低
適用行業(yè):MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、藍寶石、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、砷化鎵、鈮酸鋰和、磷化銦、金剛石等第三代半導體材料。
四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱性能
容積:40L*4,(1-12寸產品及碎片兼容)可定制
操作應用:4工位獨立控制
溫度范圍:RT+20-200℃
真空度:≤1torr
自動化:電腦式控制+MES上機位控制
真空泵:無油渦旋真空泵
HMDS藥液泄漏報警提示功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
程序鎖定保護等功能
