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一.HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)概述

   HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，改變了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。

二．HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn)

預(yù)處理性能更好：
  由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q，再進(jìn)行HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾；再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內(nèi)傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有更好的處理效果。

處理更加均勻：
由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

效率高：
液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)8盒（4寸）的晶片。

更加節(jié)省藥液：
實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多。

更加環(huán)保和安全：
HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對環(huán)境造成污染。  

自動(dòng)吸取HMDS功能：
智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

三．HMDS預(yù)處理的必要性

  在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

四.HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

? 材質(zhì)：外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

? 溫度范圍：RT+10-250℃

? 溫度分辨率：0.1℃

? 溫度波動(dòng)度：≤±0.5

? 真空度：≤133pa（1torr）

? 潔凈度：class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

? 電源及總功率：AC 220V±10% / 50HZ /2.5KW    

? 控制儀表：人機(jī)界面

? 擱板層數(shù)：2層

? HMDS控制：可控制HMDS藥液的添加量

? 真空泵：旋片式油泵或無油泵

? 保護(hù)裝置：超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等

五．HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

加熱系統(tǒng)：
由于工藝的整個(gè)過程都需要在200℃左右的環(huán)境下進(jìn)行，所以自始至終加熱系統(tǒng)都在工作。本系統(tǒng)采用在腔內(nèi)分布兩塊獨(dú)立的熱板來實(shí)現(xiàn)加熱，每個(gè)熱板都采用人工智能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確穩(wěn)定控制，測溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

真空系統(tǒng)：
由真空泵、真空組件、真空測量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余HMDS蒸汽。

充氮系統(tǒng)：
作用是在置換過程中，用氮?dú)鈦碇饾u稀釋空氣或藥液蒸汽，從而最終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。主要由氮?dú)庠?、控制閥和噴頭組成。

控制系統(tǒng)：
控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊，它的作用是控制各個(gè)模塊的動(dòng)作和時(shí)序，完成整個(gè)工藝過程。主要由人機(jī)界面，CPU控制中心，控制接口和輸出部件，報(bào)警等5部分組成。人機(jī)界面采用觸摸屏來實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)定輸入。PLC采用三菱系列小型化PLC。

軟件控制：
整個(gè)控制軟件共分4個(gè)部分，即自動(dòng)運(yùn)行、手動(dòng)控制、參數(shù)設(shè)定、幫助。當(dāng)按下自動(dòng)運(yùn)行鍵后，畫面轉(zhuǎn)換到運(yùn)行畫面，顯示當(dāng)前的工藝狀態(tài)，運(yùn)行時(shí)間等，同時(shí)系統(tǒng)開始運(yùn)行。

六．HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)常用規(guī)格

注：若無滿足型號(hào)規(guī)格，可提供訂制。